1. Механизм фотоизиации соли трифенилсульфония
Triphenylsulfonium salt is a type of cationic photoinitiator. Its core function is to release strong acid (such as perfluorosulfonic acid) after being excited by ultraviolet light (UV) or electron beam (EB), thereby initiating the polymerization reaction of monomers such as epoxy resin and vinyl ether. For example, ** triphenylsulfonium nonaflate (cas 144317-44-2) ** разлагается под светом, чтобы генерировать перфторобутановую сульковую кислоту, значительно снижая значение pH системы и катализируя цепную реакцию .
Процесс фотолиза:
Возьмите ** Triphenylsulfonium гексафторофосфат (TSHP) ** В качестве примера . после фотолиза он генерирует фенильные радикалы и сильную кислоту (hpf₆⁻), последняя из которых действует как источник протона, чтобы активировать мономер .}}}}}}}}}}}}}}.
Спектральные характеристики:
Исследования показали, что изменения спектра поглощения TSHP в твердых и жидких состояниях могут отслеживать прогресс фотореакции в режиме реального времени, обеспечивая основу для оптимизации условий фотокаурирования .
2. Области основного приложения
Соли трифенилсульфона широко используются в следующих областях из -за их высокой реакционной способности и низкой токсичности:
Производство материалов для электронных сортов
Фоторезист: как фотоацид-генератор (PAG), он используется в полупроводнической фотолитографии для достижения высокой переноса моделей микронного уровня . Например, электронный трипенилсульфониевый нефлат (чистота больше или равна 99%) является ключевой компанией высококачественного фоторезиста {5}
Упаковочные материалы: в упаковке светодиодных и чипсов он ускоряет ультрафиолетовое отверждение эпоксидных смол и улучшает теплостойкость и механическую прочность устройств .
Покрытия и чернила
Используется в ультрафиолетовых покрытиях, он значительно сокращает время сушки (от часов до секунд), и не имеет летучих органических соединений (VOC), соблюдения экологических стандартов .
3D -печать и композитные материалы
В стереолитографии (SLA) и цифровой обработке света (DLP) она используется в качестве инициатора для фоточувствительных смол для поддержки быстрого прототипирования сложных структур .
3. Процесс синтеза и правила безопасности
Маршрут синтеза:
Синтез соли трифенилсульфона обычно достигается путем замены реакции трифенилсульфона бромида и перфторульфоната ., например, трифенилсульфонанового бромида и перфтор -натрий -сульфоната, а также реагируют в смешанном растворительном, и доходность приобретает 81%, а после увеличения, а после увеличения 81% - крильтицентизат 81%. Очищение 1.
Советы по безопасности:
Этот тип соединения должен храниться вдали от света, а защитное оборудование должно носить во время операции . Экспериментальные данные показывают, что его точка плавления составляет 84-88 степень, и он легко растворим в пропиленгликолете -ацетате (PGMEA) .}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}
4. будущие тенденции и направления исследований
Зеленая химия: разработать низкофторинные альтернативы для уменьшения воздействия на окружающую среду.
Многофункциональность: комбинируйте наноматериалы для расширения применений в гибкой электронике и биомедицине .
Оптимизация процесса: повысить эффективность синтеза и снизить затраты с помощью технологии микрофлюидики .
В качестве основного материала технологии фотокаурирования фотоинициаторы соли трифенилсульфония продемонстрировали незаменимую ценность в полях электроники, покрытий и 3D-печати . с ужесточением экологических правил и технологических итераций, его рыночный потенциал будет выпущен в дальнейшем . enterprises, чтобы сосредоточиться на разработке и разработке продуктов в области развития и разработки на основе разработки и разработки в области разработки и разработки в области разработки и разработки в области разработки и разработки в области разработки и разработки в области разработки и разработки на основе разработки и разработки на основе разработки и разработки на основе разработки и разработки в области развития и разработки на основе разработки и разработки на основе разработки и разработки в области развития и разработки на основе разработки и разработки в области развития и разработки на основе разработки и разработки в области развития и разработки в области развития и разработки на основе. захватить командные высоты отрасли .